第208章 人与人之间的差距咋这么大呢?

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瞥了一旁的张默。

曾宇有些无语。

这……

太突然了吧。

好歹也跟他提前说一声,让他有个心理准备啊。

不过……

这下,想低调都不行了。

“我可以简单的告诉大家……”

“这次,无论是光刻机还是碳基芯片技术的变革,所有的核心技术点都是曾院士一个人的构想……”

“我们虽然在这个行业浸淫数十年。”

“可是,见到那些天马行空的思想,才知道时代已经变了……”

“现在是后浪的时代……”

张默侃侃而谈。

他把曾宇的功劳简单的说了一下。

听完了之后。

底下的人都沉默了!

这特娘的。

曾宇一个人可以当上百个科学家使用啊。

这何止是天才!

这是变态,超级大变态!

难以想象,一个人的大脑为什么能够如此的变态。

难道曾宇是从另外一个时空穿越过来的人,又或者高纬空间降临的生命体吗?

“接下来,我就不废话了。”

“这次峰会由曾院士主导召开。”

“让我们以热烈的掌声,欢迎曾宇给大家发言。”

张默说着,直接站起身来,使劲的拍手。

其余人也都起身,纷纷鼓掌。

曾宇有些无奈的看了看大家。

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他抬起了双手,学着电视里的领导人一样,示意大家安静。

顿时,全场一下子就安静下来。

他不得不感叹,这个手势可真是好用。

“各位……”

“刚才张默院长对我的夸赞,我实在受宠若惊。”

“我们个月,参加研发的工作人员总共3000余人,大家都是立下了汗马功劳的。”

“我只不过参与了一点点研究而已,就占据了99%的功劳,让我汗颜……”

曾宇谦虚的说道。

一点点研究?

听见这话。

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宁玄、张默等人忍不住嘴角抽动。

下面的各国教授专家们,也都无语凝噎。

你特么管这叫一点点研究。

你把我们置于何地!

我们来这里,是学习技术经验的,不是来承受打击的。

“曾院士,你谦虚了……”

“这何止一点点研究,这是巨大的突破进展。”

张中天笑着插了一句。

曾宇摆了摆手。

“张教授,你不懂……”

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“对于我而言,就只是一点点研究。”

真的只是一点点研究而言,对于浩瀚的科学界,简直不过是沧海一粟。”

没错!

真的就一点点研究。

他的系统之中,还有好多东西呢。

光刻机算什么东西。

到时候,航母也给你弄出来。

“曾院士太谦虚了!”

“若是每个人都能够像曾院士这么谦虚而上进,那么人类的进程将会拥有多么巨大的跨越。”

有人拍马屁道。

“没错。”

“但愿我们所有人能够像曾宇院士一般,低调而上进,谦虚而好学……”

“让我们像曾院士学习……”

台下不少人欢呼起来。

曾宇:“……”

我特么实话实说啊。

你们怎么就不信呢。

还向我学习。

我是你们能够复制的了的吗?

别特么做梦了!

“咳咳……”

“大家不要盲目追星,我这个最讨厌追星。”

“有梦想是好事,但不是每个梦想都那么好实现……”

“我只是个特列,你们别学我。”

“真要学,我建议你们学习我的作息。”

“我这个人最爱的就是学习,学习使我快乐,学习使我进步,学习让我人生充满了激情……”

“人生何处不学习,三人行必有我师。我每天几乎都对学习……”

曾宇解释道。

众人感觉自己内心受到了严重的打击。

这话怎么听着好像曾宇瞧不起他们似的。

“行了,现在我们废话少说,进行学术交流吧。”

曾宇说着,坐到了自己的位置上。

这时候。

场面再一次的安静下来。

各国的教授或是沉思,或者是看着自己手中的笔记本。

“曾院士,我们可以提问吗?”

这时候,一个教授开口道。

曾宇看着他,满脸自信的点了点头。

“没问题。”

“只要是关于光刻机和芯片方面的东西,你们随便问,我给你们解答……”

随……随便问?

听见这话。

众人再次惊愕。

太自信了吧。

一个人的脑容量能够有多大。

才19岁,能够学习的知识点,能够有多少。

难不成,这次光刻机和碳基芯片,还真的99%都是曾宇的功劳不成。

“真的吗?”

“您不是在开玩笑吧。”

此人疑惑的问道。

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“当然。”

“要是我回答不出来,我当场把这本书给吃掉。”

“生吞表演,如何?”

嘶……

这……

太狠了。

是个狼灭!

“好,我想问一下,3nm的光刻机,和5nm的光刻机最核心的地方是晶体管的技术……”

“据我所知,FinFET工艺是最符合摩尔定律的,如果要取得突破话,那么就会违反摩尔定律……”

“这个核心点,你们是如何突破的呢?”

此人提出了一个相当尖锐的问题。

这是为什么到了5nm光刻机后,很难再有存进的缘故。

曾宇笑了笑。

侃侃而谈。

“3nm光刻机和5nm光刻机这个技术点的突破,仅仅是摩尔定律吗?”

“不,是我们人的思维。”

“所有的定律,都是用来打破的,你如果对某个定律坚信不疑,那么你将会失去创造力。”

“我们的光刻机晶体管基于全栅极(GAAFET)技术,GAANWFET拥有高静电掌控能力,可以实现CMOS微缩……”

“在水平配置中,也是目前主流FinFET技术的自然延伸,可以通过垂直堆叠多条水平纳米线来最大化每个覆盖区的驱动电流……”

解释完毕之后。

此人脸上早已经没有刚才的质疑神色。

反而是陷入了激动之中。

其余诸人,也都是眉头紧锁,在思考着这个关键点。

啪啪啪……

片刻后。

这个问话之人,心悦诚服的拍了拍。

“曾院士竟然能够有如此奇特的妙想……”

“佩服,佩服……”

“我受教了!”

曾宇笑着摆了摆手。

“说实话,你这个问题太简单了,你还有更难一点的问题吗?”

Emmm……

太简单了?

众人内心不由一窒。

这尼玛叫简单?

能不能别装逼!

这都简单的话,那3nm的光刻机不是早就研发出来了。

不过……

看曾宇的表情,很轻松,很愉悦。

没有一丁点的压力。

而且,解释也非常的合理。

好像对于他而言,就真的很简单啊!

想到这里,众人内心莫名一痛。

人与人之间差距怎么这么大呢!

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